真空爐中的溫度分布

 真空爐中的溫度分布

　石墨棒加熱元件布置在加熱室兩側的布置法,特別適于高真空爐。在高真空氣氛中,由兩側加熱元件產生的熱輻射區能夠對工件進行均勻地加熱。當爐溫在400—1300℃時,加熱區各點溫差可達±5 K。 60年代以前,溫度控制一直是熱處理技術中的主要問題之一。后來由于采用了電子溫控技術,這個問題已經解決。目前,從溫度分布的角度來看,熱區溫度分布的精度是重要問題。我們幾乎總是要優先考慮力求在結構上能保證獲得溫度均勻的熱區,至于由于某種原因使熱區出現暫時性的溫度不均勻現象也會隨保溫時間的延長而消失。反之,溫度較高或較低的熱區會使它的有害影響貫穿于熱處理的始終。下面我們介紹在這方面卓有成效,溫度梯度低于0.01K/cm的真空爐結構。 真空爐除了具有溫度均勻性外,還有其它一些優點。耗能少,完全避免使用有毒材料,加熱、材料放氣產生煙塵對環境的污染、完滿地解決了材料表面氧化或畸變問題。由于有這些優點已使真空爐成為現時熱處理工藝中不可少的條件。 真空中的傳熱 從傳熱來看,真空起到雙重作用。